セル生産式ダブルウェーブフローはんだ付け装置

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  • セル生産式ダブルウェーブフローはんだ付け装置TS-300/TS-400

    セル生産式ダブルウェーブフローはんだ付け装置

    鉛フリー対応に。幅広一次噴流波を採用しました。チップ電極への鉛フリーはんだの濡れを確実にし、未はんだ付けを無くします二次波間25mm(業界最小隙間)。温度低下をなくし、両面基板スルーホールのはんだフローアップを確実にします。堅牢な鋳物製はんだ鍋搭載。鉛フリーはんだの浸食作用に対応し、高温使用での鍋の歪みを無くします。ストリップヒータの採用。スプレーフラクサ搭載(発泡式もあります)。フラックスを最小限に抑え、はんだ濡れを確実にします。局所窒素フード取り付け可能(オプション)。はんだ付けの品質アップを助けます。